<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Galu on UV Curing Store</title>
		<link>http://uv-curing-store.com/pl/tags/galu/</link>
		<description>Recent content in Galu on UV Curing Store</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 23:24:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-store.com/pl/tags/galu/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampa UV do galiumu do eksponowania ekranu</title>
				<link>http://uv-curing-store.com/pl/posts/gallium-uv-lamp-for-screen-exposure/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 23:24:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-store.com/pl/posts/gallium-uv-lamp-for-screen-exposure/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-store.com/images/9077c93f1832a70892d6b411b332986f.png&#34; alt=&#34;Lampa UV do galiumu do eksponowania ekranu&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;linii&lt;/a&gt; ekspozycji niedostateczna ekspozycja jest problemem, który potajemnie niszczy cały dzień pracy. Słabe szablony, otwory w szablonie oraz konieczność dokonywania poprawek pogarszają efektywność pracy urządzenia. W rzeczywistości to właśnie specyficzny widmo wydzielane przez lampę UV decyduje o tym, czy fotopolimer będzie prawidłowo łączyć się ze sobą – czy też nie.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h3 id=&#34;co-naprawdę-ma-znaczenie&#34;&gt;Co naprawdę ma znaczenie?&lt;/h3&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;Lampy&lt;/a&gt; UV na bazie galuum są projektowane tak, aby mieć maksimum emisji światła przy długości fali 365 nm – to odpowiednia wartość dla inicjacji procesu utwardzania fotopolimeru. Długość łuku elektrycznego oraz stopień domieszek są tak dobrane, aby zapewnić stałe natężenie promieniowania na całej powierzchni lampy, a nie tylko w jednym punkcie. Maksymalne natężenie promieniowania wynosi ponad 1,200 mW/cm² na powierzchni szablonu, co oznacza gęstość energii potrzebną do utwardzenia fotopolimeru na poziomie powyżej 300 mJ/cm² w typowych warunkach ekspozycji.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
