
در فضای چاپ، انرژی UV که به سطح مورد نظر نمیرسد، صرفاً هدر میرود. وقتی که جهتگیری منعکسکنندهها درست تنظیم نشود، شدت تابش کاهش مییابد؛ همچنین، پوشش سطحی نامنظم میشود و لامپ بیشتر از حد لازم کار میکند – بهویژه در سرعتهای بالا. سیستم لامپ UVC T5 قراتز، برای جبران این اتلافها طراحی شده است؛ این سیستم از یک لامپ T5 کوچک و یک منعکسکننده استفاده میکند تا فوتونها در مسیر درست هدایت شوند.
نکته کلیدی این است که لامپ، تابش UVC پایداری با طول موج ۲۵۴ نانومتر را ارائه میدهد؛ بنابراین میزان تابش و عمق پوشش سطحی قابل پیشبینی خواهد بود. در صنعت UV، خلوص طیفی انرژی بسیار مهم است؛ چرا که انرژی در جایی متمرکز میشود که فوتواینیشیاتورها و DNA میکروبی آن را جذب کنند، نه اینکه در طولموجهای غیرضروری توزیع شود. فرم T5 باعث میشود فاصله بین الکترودها کوتاه باشد؛ در نتیجه، پروفایل تابش دقیق و با شدت بالا خواهد بود.
استفاده از منعکسکنندههایی با سطوح دقیقاً شکلگرفته و لایههای دورنگی که برای بازتاب UVC مناسب هستند، باعث میشود انرژی هدررفت نکند. در نتیجه، چگالی انرژی در سطح مورد نظر بالاتر خواهد بود؛ یعنی مقدار بیشتری انرژی در هر سانتیمتر مربع وجود خواهد داشت.
پس این موضوع در عمل چه تأثیری دارد؟ کارایی منعکسکننده، مقدار جریان لامپی را که برای رسیدن به میزان تابش مورد نیاز لازم است، کاهش میدهد؛ در نتیجه، گرمای کمتری تولید میشود، نیاز به خنککاری کمتر است و لامپ سریعتر به حالت پایدار میرسد. برای فرآیندهای درمان و ضدعفونی، میتوانید سرعت خط تولید را افزایش دهید بدون اینکه عمق پوشش سطحی کاهش یابد؛ یا با همان سرعت، اما با مصرف انرژی کمتر.
ما شاهد تابش پایدار لامپ در طی بیش از ۵٬۰۰۰ ساعت کاری هستیم؛ در نتیجه، پارامترهای فرآیند در هر شیفت قابل تکرار خواهند بود.
نصب لامپ در دستگاههای استاندارد T5 بدون نیاز به ابزار امکانپذیر است؛ اما تنظیم دقیق جهتگیری منعکسکننده بسیار مهم است. کارایی منعکسکننده تنها زمانی مشهود میشود که لامپ در صفحه فوکال قرار داشته باشد؛ اگر لامپ چند میلیمتر از این موقعیت منحرف شود، انرژی پراکنده میشود و شدت تابش کاهش مییابد.
همچنین، سطوح کوارتزی لامپ را تمیز نگه دارید؛ گرد و غبار و لایههای روی سطح، تابش UV را پراکنده کرده و میتوانند میزان تابش وارد شده را کاهش دهند. بهتر است بازرسیهای دورهای و تمیزکاریهای لازم را انجام دهید، بهویژه در محیطهایی که حاوی مواد حلال یا ذرات معلق هستند.